Подсубпозиция ТН ВЭД 8486 20 900 3
Машины и аппаратура для производства полупроводниковых приборов или электронных интегральных схем установки для удаления фоторезиста или очистки полупроводниковых пластин
- Дата
регистр. Регистрационный номер
и продукция Производитель / Заявитель - 07 Июл '26
RU Д-CN.РА05.В.78621/26
Модуль отмывки после планаризации, модель: washing machine; линия отмывки от флюса после лужения, модель: post-treatment machine for halТН ВЭД 8486 20 900 3
РЕГЛАМЕНТ 004/2011 • 020/2011
ПРОИЗВОДИТЕЛЬ UNIVERSAL CIRCUIT BOARD EQUIPMENT CO., LTD.ЗАЯВИТЕЛЬ ООО «ОСТЕК-СТ» - 01 Июн '26
RU Д-CN.РА04.В.65920/26
Установка поштучной обработки пластин в органических растворахТН ВЭД 8486 20 900 3
РЕГЛАМЕНТ 010/2011 • 020/2011
ПРОИЗВОДИТЕЛЬ HANS CORE TECHNOLOGYЗАЯВИТЕЛЬ ООО «ТТМ» - 28 Апр '26
RU Д-CN.РА03.В.75452/26
Установка для отмывки и сушки полупроводниковых пластин,ТН ВЭД 8486 20 900 3
РЕГЛАМЕНТ 004/2011 • 020/2011
ПРОИЗВОДИТЕЛЬ BEIJING ESTEK ELECTRONICS COMPANY LTDЗАЯВИТЕЛЬ ООО «САЕНС ТЕХНОЛОДЖИ» - 23 Мар '26
RU Д-US.РА02.В.75391/26
Промышленная полупроводниковая специализированная установка-система химического осаждения/нанесения тонких металлических и диэлектрических пленок методом химического осаждения из газовой фазы на поверхность кремниевых пластин диаметром 300 мм (12 дюймов) модель «altus c3 wcvd», торговая марка «novellus»ТН ВЭД 8486 20 900 3 • 8486 20 900 2 • 8486 30 100 0 • 8486 30 300 0 • 8486 30 500 0 • 8486 20 900 5 • 8486 20 900 9
РЕГЛАМЕНТ 004/2011 • 020/2011
ПРОИЗВОДИТЕЛЬ LAM RESEARCH CORPORATIONЗАЯВИТЕЛЬ ООО «ЭЛКОМ» - 13 Мар '26
RU Д-CN.РА02.В.52848/26
Прибор для плазменной обработкиТН ВЭД 8486 20 900 3
РЕГЛАМЕНТ 004/2011 • 020/2011
ПРОИЗВОДИТЕЛЬ «SHENYANG KEJING AUTO-INSTRUMENT CO., LTD»ЗАЯВИТЕЛЬ ООО «МИНАТЕХ» - 06 Мар '26
RU Д-CN.РА02.В.27748/26
Система очистки печатных плат сухим льдом тм: sonic pyrologyТН ВЭД 8486 20 900 3
РЕГЛАМЕНТ 004/2011 • 020/2011
ПРОИЗВОДИТЕЛЬ SUPER DISC TECHNOLOGY（SHENZHEN）CO., LTD..ЗАЯВИТЕЛЬ ООО «СМТМАКС» - 25 Фев '26
RU Д-CN.РА02.В.10565/26
Установки отмывки пластин; автоматическая двухкамерная машина для чистки с двусторонней щеткой ylz-ss300 auto.ТН ВЭД 8486 20 900 3
РЕГЛАМЕНТ 010/2011 • 020/2011
ПРОИЗВОДИТЕЛЬ SUZHOU YINGTAZA SEMICONDUCTOR EQUIPMENT CO., LTD.ЗАЯВИТЕЛЬ ООО «ИНЖИНИРИНГ ГРУПП» - 17 Фев '26
RU Д-CN.РА01.В.91563/26
Система плазменной очистки поверхности пластин, торговой марки crf plasmaТН ВЭД 8486 20 900 3
РЕГЛАМЕНТ 004/2011 • 020/2011
ПРОИЗВОДИТЕЛЬ SHENZHEN SING FUNG INTELLIGENT MANUFACTURING CO., LTDЗАЯВИТЕЛЬ ООО «ФАРАДЕЙ ПРО» - 30 Дек '25
RU Д-CN.РА12.В.17611/25
Система струйной очистки mf-610 c модулем деионизации воды di 1000, торговой марки meraifТН ВЭД 8486 20 900 3
РЕГЛАМЕНТ 004/2011 • 020/2011
ПРОИЗВОДИТЕЛЬ SHENZHEN MERAIF IMPORT AND EXPORT CO., LTD.ЗАЯВИТЕЛЬ ООО НПП «УНИВЕРСАЛ ПРИБОР» - 25 Дек '25
RU Д-RU.РА12.В.02485/25
Печь группового отжига пластинТН ВЭД 8486 20 900 3
РЕГЛАМЕНТ 010/2011 • 020/2011
ПРОИЗВ./ЗАЯВ. ООО «САВТЭК»